Описаны проведенные методом наноиндентирования сравнительные испытания монокристалла HfB2 и нанокристаллической тонкой пленки HfB2,7, осажденной магнетронным распылением на стальную подложку. Показано, что сверхстехиометрия по бору и малый размер зерна приводят к резкому росту твердости и снижению модуля упругости тонкой пленки НfВ2,7 по сравнению с массивным монокристаллом. Аномально высокое (87 %) для неорганических материалов упругое восстановление глубины отпечатка после разгрузки индентора в тонкой пленке HfB2,7 указывает на перспективность ее применения в качестве износостойкого покрытия.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"