Олемской И. А. Модель изменения структуры аморфных и многокомпонентных тонких пленок под воздействием импульсной фотонной обработки / И. А. Олемской, И. А. Шуда, Е. В. Шведов // Металлофизика и новейшие технологии. - 2009. - 31, № 12. - С. 1653-1668. - Библиогр.: 24 назв. - рус.Исследованы условия развития тепловой неустойчивости в результате самоорганизации процессов движения фронта кристаллизации и температуропроводности, течение которых связано с разностью термодинамических потенциалов аморфного и кристаллического состояний. Показано, что при выделении тепла, превышающем критическое значение, появляется стационарное состояние, в котором скорость фронта кристаллизации приобретает аномально большие значения. Исследован процесс взрывной кристаллизации, представляющий результат самоорганизуемой критичности в стохастическом распространении тепла по узлам иерархического дерева. Показано, что неустойчивость развивается только в том случае, когда тепловой эффект кристаллизации превышает критическое значение, величина которого определяется температуропроводностью. Індекс рубрикатора НБУВ: В372.6 + В375.14
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж14161 Пошук видання у каталогах НБУВ
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|