Запропоновано моделі, які дозволяють прогнозувати кінетику росту оксиду на поверхні тонких плівок. Вважають, що у двошаровій системі матеріал "нижнього" шару дифундує по границях зерен матеріалу "верхнього" шару і реакція його окислення на зовнішній поверхні створює додаткову рушійну силу дифузії. Кількість дифузанта, яка витрачається на утворення оксиду, не бере далі участі у процесі масоперенесення, тому градієнт концентрації не знижується. За умов додаткового впливу "кисневого насоса" на поверхні тонких плівок рушійна сила процесу, зумовлена градієнтом концентрації, продовжує діяти достатньо довго. Процес росту оксиду міді на поверхні шару нікелю в двошаровій системі Cu/Ni розглянуто з урахуванням різних механізмів дифузії міді - об'ємної крізь оксид, поверхневої вздовж міжфазної межі метал - оксид, по потрійних стиках границь зерен, а також за комбінованим механізмом - поверхневої та об'ємної дифузії. Встановлено, що механізм дифузії суттєво впливає на форму та розмір оксидного шару, а також на його ефективну товщину. Проаналізовано вплив параметрів масоперенесення на ефективний показник росту оксиду.

• Олешкевич Анна Ігорівна (фізико-математичні науки)
• Гусак Андрій Михайлович (технічні науки)
• Сидоренко Сергій Іванович (1947–) (технічні науки)
• Сидоренко Сергій Іванович (1966–) (філологічні науки)
• Волошко Світлана Михайлівна (1960–) (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"