Рассмотрена возможность использования реакций фото- и электроделения ядер вольфрама как инструмента для исследования динамики и процессов излучения ультрарелятивистских электронов в ориентированном монокристалле. С этой целью проанализированы экспериментальные данные по исследованию ориентационных зависимостей выходов осколков фото- и электроделения ядер из монокристаллического вольфрама при взаимодействии электронов с энергией 1200 МэВ. Рассмотрена модель монокристалла, представленного в виде сэндвича, состоящего из двух приповерхностных слоев, на входе пучка электронов в монокристалл и на выходе из него, из которых вылетают осколки деления под действием фотонов и электронов, а между ними радиатор тормозного излучения, представляющий собой часть монокристалла, из которой осколки деления не выходят из-за их малой длины пробега в данном материале. Исходя из этой модели монокристалла, рассчитано отношение выходов осколков фотоделения к сечению электроделения и построена зависимость этого отношения от угла ориентации кристаллографической оси относительно направления падающего на монокристалл пучка ультрарелятивистских электронов. На основании полученной зависимости сделан вывод о перераспределении потоков каналированных и надбарьерных частиц в кристалле в интервале углов поворота кристаллографической оси относительно направления падающего пучка в пределах от 0 до 2 миллирадиан. Сделан также вывод, что спектр тормозного излучения в этом интервале углов также меняется, а именно, при повороте кристалла в пределах углов от 0 до 1 миллирадиана он становится более жестким, а при больших углах разориентации,

когда кристалл становится эквивалентен аморфной мишени, спектр тормозного излучения становится близким к шиффовскому.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"