Nazarova T. M. Hydrogen as a source of high-temperature charge instability in silicon-on-insulator structures and field effect transistors = Водень як джерело високотемпературної нестабільності заряду в структурах кремній-на-ізоляторі та польових транзисторах / T. M. Nazarova, V. S. Lysenko, A. N. Nazarov, V. M. Tomashik, D. Flandre // Фізика і хімія твердого тіла. - 2011. - 12, № 2. - С. 521-525. - Библиогр.: 16 назв. - англ.Досліджено явище високотемпературної нестабільності заряду в приповерхневому оксиді n-МОН структури з повністю виснаженою інверсною модою в кремнії-на-ізоляторі та високотемпературну динаміку носіїв струму в конденсаторах, виготовлених із використанням кремнію, імплантованого киснем, і кремнію за присутності SiO2. Показано, що природа процесу високотемпературної нестабільності заряду зумовлена генерацією протонів в порушеній зоні поблизу межі приповерхневий оксид - кремнієва підкладка за температур вищих за 200 градусів за Цельсієм. Визначено значення енергії активації процесу генерації протонів (1,2 еВ для SIMOX і від 0,9 до 1,5 еВ для UNIBOND матеріалів) і розраховано коефіцієнт дифузії протонів у приповерхневому оксиді. Індекс рубрикатора НБУВ: В379 + З852.395
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26618 Пошук видання у каталогах НБУВ
Повний текст Наукова періодика України Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|