Подано загальні відомості про технологію інтегральних мікросхем, надано їх класифікацію та описано основні технологічні операції з виготовлення напівпровідникових мікросхем. Розглянуто методи вирощування кремнієвих монокристалічних злитків. Описано всі основні технологічні операції формування структури напівпровідникової мікросхеми, а саме: окиснення поверхні кремнієвої пластини, епітаксію, фотолітографію, легування за допомогою дифузії та іонної імплантації тощо. Як приклад для аналізу технологічних операцій обрано епітаксіально-планарний транзистор, бо в процесі його виготовлення застосовуються практично всі типові технологічні операції. Досліджено процеси, що лежать в основі технології виготовлення тонко- та товстоплівкових гібридних інтегральних мікросхем, а саме: напилювання на діелектричну подложку тонких плівок іонно-плазмовими методами та термовакуумним випарюванням; формування плівок методом трафаретної печатки.

• Лорія Марина Геннадіївна (технічні науки)
• Целіщев Олексій Борисович (технічні науки)
• Єлісєєв Петро Йосипович (фізико-математичні науки)
• Марченко Анна Вікторівна (технічні науки)
• Марченко Артем Володимирович (технічні науки)
• Марченко Алла Володимирівна (медичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"