Boltovets N. S. Comprehensive studies of defect production and strained states in the silicon epitaxial layers and device structures based on them / N. S. Boltovets, D. I. Voitsikhovskyi, R. V. Konakova, V. V. Milenin, V. A. Makara, O. V. Rudenko, M. M. Mel'nichenko // Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics. - 2001. - 4, № 4. - С. 318-322. - Бібліогр.: 3 назв. - англ.Методами рентгенівської топографії за Лангом, двокристальної рентгенівської спектрометрії та селективного хімічного травлення досліджено процеси дефектоутворення в кремнієвих епітаксійних структурах, вирощених на n<^>+-підкладках Si, оброблених за 12 і 14 класами. Знайдено кореляцію між величиною зворотного струму термогенераційної природи, часом життя неосновних носіїв заряду <$E tau sub p > в n-шарі та концентрацією структурних дефектів (структурною досконалістю n<^>+-підкладки). Запропоновано модель деформованого стану багатошарової приладової структури, в тому числі з омічними та контактними шарами. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.222
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж16425 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) ![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|