Mahdjoub A. Photoluminescence characterization of Al/Al2O3/InP MIS structures passivated by anodic oxidation / A. Mahdjoub, H. Bouredoucen, A. Djelloul // Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics. - 2004. - 7, № 4. - С. 436-440. - Бібліогр.: 16 назв. - англ.Структури метал - ізолятор - напівпровідник (МІН) одержано електронно-променевим випаровуванням Al2O3 на InP. Щоб пасивувати межу поділу InP/ізолятор, використано плівки поліфосфатів завтовшки 100 - 150 <$E roman A back 55 up 35 symbol Р>. Спектри фотолюмінесценції реєструвались за низьких температур на різних стадіях процесу виготовлення структури МІН - InP. Деградація межі поділу за рахунок повторюваних відпалів за температури 350 <$E symbol Р>C виявилась несуттєвою. Концентрація основних радіаційних дефектів з енергією від 0,95 до 1,15 еВ, виявлених за допомогою фотолюмінесценції та віднесених до комплексів домішок і вакансій фосфору, суттєво зменшується за присутності анодного оксиду. Індекс рубрикатора НБУВ: В374.98
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж16425 Пошук видання у каталогах НБУВ
![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|