An investigation of radiation effect on edgeless accumulation mode (AM) p-channel and fully-depleted enhancement mode n-channel MOSFETs, fabricated on UNIBOND silicon on insulatior wafers (SOI), is presented in the paper. Characterization of trapped charge in the gate and buried oxides of the devices was performed by measuring only the front-gate transistors. It was revealed that the irradiation effect on EM n-MOSFET is stronger than that on AM p-MOSFET. Radiation-induced positive charge in the buried oxide proved to invert back interface what causes back channel creation in EM n-MOSFET but such effect in AM p-MOSFET has not been observed. The effect of improving the quality of both interfaces for small irradiation doses is demonstrated.

Індекс рубрикатора НБУВ: З852.3-01

Рубрики:

Напівпровідникові тріоди (кристалічні тріоди, транзистори)

Шифр НБУВ: Ж16425 Пошук видання у каталогах НБУВ 

---

Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)

• Лисенко Володимир Сергійович (1940–) (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"