 Книжкові видання та компакт-диски  Журнали та продовжувані видання  Автореферати дисертацій  Реферативна база даних  Наукова періодика України  Тематичний навігатор  Авторитетний файл імен осіб
|
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000395368<.>) |
Загальна кількість знайдених документів : 1
|
Lysenko V. S. Influence of traps in gate oxide-Si film transition layers on FD MOSFET's characteristics at cryogenic temperatures / V. S. Lysenko, I. P. Tyagulsky, I. N. Osiyuk, A. N. Nazarov // Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics. - 2007. - 10, № 2. - С. 34-39. - Бібліогр.: 7 назв. - англ.The results of experiments on the influence of recharging the electron traps in a Si-SiO2 transition layer on the low-temperature characteristics of fully depleted silicon in insulator MOSFET devices are presented. It is shown that the low-dose gamma-radiation improves electrophysical parameters of the transition layer. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.226
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж16425 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
|