We investigated temperature dependence of contact resistance of an Au - Ti - Pd2Si ohmic contact to heavily doped <$E n sup + - roman Si>. The contact resistance increases with temperature owing to conduction through the metal shunts. In this case, the limiting process is diffusion input of electrons to the metal shunts. The proposed mechanism of contact resistance formation seems to realize also in the case of wide-gap semiconductors with high concentration of surface states and dislocation density in the contact.

 Наукова періодика України 

---

Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)

• Бєляєв Олександр Євгенович (1947–) (фізико-математичні науки)
• Конакова Раїса Василівна (1941–) (фізико-математичні науки)
• Саченко Анатолій Васильович (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"