Rudenko R. M. Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin / R. M. Rudenko, V. V. Voitovych, M. M. Kras'ko, A. G. Kolosyuk, A. M. Kraichynskyi, V. O. Yukhymchuk, V. A. Makara // Укр. фіз. журн.. - 2013. - 58, № 8. - С. 769-772. - Бібліогр.: 16 назв. - англ.Досліджено вплив ізохронного відпалу в діапазоні 350 - 1100 градусів за Цельсієм на структурні властивості та край власного поглинання тонких плівок кремнію, легованих оловом (a-SiSn). Одержано, що у структурі a-SiSn (олова ~ 4 ат. %), на відміну від нелегованого a-SiSn, одразу після осадження, присутні нанокристали кремнію (розмір кристалітів 4 нм, частка кристалічної фази ~ 65 %). Показано, що ізохронний відпал a-SiSn у діапазоні 350 - 1100 градусів за Цельсієм поступово збільшує розміри нанокристалів кремнію в аморфній матриці до ~ 7 нм, а частку кристалічної фази до 100 %. Кристалізація нелегованого оловом Цельсієм починається лише за температур відпалу більше 700 градусів за Цельсієм. Проаналізовано вплив олова на оптичну ширину забороненої зони a-SiSn, залежно від температури ізохронного відпалу. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.222 + В379.226 + В379.251.4
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26988 Пошук видання у каталогах НБУВ Повний текст Наукова періодика України Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|