Приведен анализ основных проблем ионно-плазменных технологий, в которых плазма генерируется вакуумно-дуговым разрядом с интегрально холодным катодом. Эти проблемы разделены на группы по выделенным основным зонам, характерным для рассматриваемых технологий. Охарактеризованы известные методы и оборудование, позволяющие решить некоторые из существующих проблем, а также предложены новые решения, позволяющие повысить эффективность применяемых в промышленности технологий. Разработанное оборудование является незаменимым при создании нового поколения сложнокомпозиционных покрытий, в состав которых входят как металлы, так и несколько реакционных газов, а также при автоматизации процессов ионно-плазменной обработки.

 Наукова періодика України 

---

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"