Malkovich R. Sh. The mechanisms of the atomic diffusion in semiconductors / R. Sh. Malkovich // Functional Materials. - 1999. - 6, № 2. - С. 229-234. - Бібліогр.: 91 назв. - англ.Розглянуто специфічні властивості механізмів атомної дифузії у напівпровідниках, визначених взаємодією домішок і точкових дефектів з електронно-дірковою підсистемою. Ця взаємодія виявляє себе у перерозподілі домішки по зарядовим станам, які розрізняються за дифузійною рухомостю, у змінюванні концентрації точкових дефектів і вакансій та власних міжвузлових атомів, за участю яких здійснюється дифузія домішки (або самодифузія), а також в існуванні внутрішнього електричного поля. Зазначено, що важливою проблемою вивчення механізмів атомної дифузії в напівпровідниках є з'ясування ролі точкових дефектів у дифузії домішок і самодифузії. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.222
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж41115 Пошук видання у каталогах НБУВ
![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|