X_alpha-методом варіювання виконано розрахунки електронної структури та хімічного зв'язку в недопованому оксинітриді кремнію і в Si₂N₂O, допованому атомами p-елементів (C, Ga, Al). Розраховано кластери [Si(C,Ga,Al)ON₃]. Встановлено, що в Si₂N₂O хімічний зв'язок Si - O є більшою мірою ковалентним, тоді як природа зв'язку Si - N має, в основному, іонний характер. При заміщенні Si на атоми С, Ga, Al усі зв'язки центрального атома з атомами координаційного поліедру набувають значного ступеня ковалентності таким чином, що внесок іонної складової має тенденцію зростати в послідовності C -> Ga -> Al. Зроблено припущення, що допування оксинітриду кремнію вуглецем (за механізмом заміщення Si-позицій) призведе до підвищення когезійних властивостей системи.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"