![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Книжкові видання та компакт-диски ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Журнали та продовжувані видання ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Автореферати дисертацій ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Реферативна база даних ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Наукова періодика України ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Тематичний навігатор ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Авторитетний файл імен осіб
|
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000518173<.>) |
Загальна кількість знайдених документів : 1
|
Artamonov V. V. Study of subsurface Si layers with a latent SiO2 layer / V. V. Artamonov, M. Ya. Valakh, N. I. Klyui, V. P. Melnik, B. N. Romanyuk, V. G. Popov, V. A. Yukhimchuk // Functional Materials. - 1998. - 5, № 4. - С. 551-554. - Бібліогр.: 10 назв. - англ.Досліджено вплив домішкових атомів вуглецю на зародження та ріст SiO2-фази при низькодозовій (від 1 до 2) . 1017 см-2 імплантації іонів O+ в Si. Показано, що із зміною енергії імплантованих іонів C+ змінюється профіль розподілу атомів кисню. Досліджено розподіл механічних напружень в приповерхневому шарі Si після імплантації іонів O+ і C+ та наступного термічного відпалу. Показано, що двостадійна імплантація іонів O+ при загальній дозі 2 . 1017 см-2 призводить до утворення майже стехіометричного шару SiO2. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.256
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж41115 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) ![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
|