Artamonov V. V. Study of mechanical strain in <$E bold {{roman Si} sub {1~-~x} {roman Ge} sub x}> layers using Raman spectroscopy / V. V. Artamonov, M. Ya. Valakh, V. N. Dzhagan, R. L. Politansky, V. O. Yukhimchuk // Functional Materials. - 2002. - 9, № 2. - С. 232-236. - Бібліогр.: 15 назв. - англ.За допомогою спектроскопії КРС досліджено механічні напруження в <$E {roman Si} sub {1-x} {roman Ge} sub x>-шарах, одержаних методами епітаксії та імплантації іонів <$E roman Ge sup +> у кремнієву підкладку. Показано, що легування під час росту <$E {roman Si} sub {1-x} {roman Ge} sub x>-шару атомами вуглецю призводить до часткової релаксації механічних напружень. Установлено, що приховані <$E {roman Si} sub {1-x} {roman Ge} sub x>-шари, одержані імплантацією іонів <$E roman Ge sup +> у кремнієву підкладку та наступним високотемпературним відпалом, є повністю напруженими. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.26в734.5
Шифр НБУВ: Ж41115 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|