За допомогою методу рентгенівської рефлектометрії досліджено змінювання структури нікелевих плівок різної товщини на кремнієвих підкладках під час опромінювання вакуумним ультрафіолетом (ВУФ). Виявлено надтонкий (1 - 2 нм) шар (із густиною <$E rho~=~3,2~symbol Ш~3,4~roman {г "/" см} sup 3> за умови <$E lambda> = 120 нм і <$E rho~=~2,1~symbol Ш~2,6~roman {г "/" см} sup 3> за умови <$E lambda> = 180 нм), який утворюється на поверхні плівок нікелю в результаті ВУФ опромінювання. У цьому разі шар нікелю за густиною та товщиною помітно не змінювався. Припущено, що шар, який утворюється на поверхні, є результатом взаємодії ВУФ із кремнієвою підкладкою, причому у випадку ВУФ з <$E lambda> = 120 нм утворюється нітрид кремнію Si3N4, а у випадку <$E lambda> = 180 нм створюється оксид кремнію SiOx.

• Малихін Сергій Володимирович (1956–) (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"