За допомогою методу рентгенівської рефлектометрії досліджено кінетику твердофазних реакцій, які відбуваються на поверхні системи нікель/<$E {roman Si} sub "sub"> (з ефективною товщиною нікелю 15 і 45 нм) під впливом ВУФ-опромінювання з енергією <$E 8~symbol Г~hv~symbol Г~11,8> eB. Шари нікелю та його оксиду не змінюються ні за товщиною, ні за густиною. У результаті ВУФ стимульованої дифузії кремнію з підкладки та сполучення кремнію з азотом на поверхні нікелевої плівки формується шар силіциду кремнію густиною (3,2 - 3,4) <$E roman {г~cdot~см} sup -3> і товщиною <$E symbol Ы~1,5> нм. Реакція формування нітриду кремнію, в якій нікель бере участь як каталізатор, кінетично має нульовий порядок, характерний для радіаційно-(фото-) хімічних процесів, і припиняється у разі досягнення товщини 1,5 нм. У разі витримки на повітрі має місце зменшення густини поверхневого шару до 2,3 <$E roman {г~cdot~см} sup -3> і збільшення товщини до <$E symbol Ы~2,5> нм у результаті реакції окиснення. Повторні цикли опромінювання та окиснювання ведуть до деградації системи плівка - підкладка із-за порушення адгезії плівки.

• Малихін Сергій Володимирович (1956–) (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"