Досліджено процес хіміко-механічного полірування сапфіру кристалографічних орієнтацій (0001), (1012), (1120) під час використання водної суспензії діоксиду кремнію як полірувального розчину. Встановлено анізотропію швидкості знімання та оптичної якості поверхні сапфіру залежно від його кристалографічної орієнтації та кута відхилення геометричної поверхні зразка від кристалографічної площини. Одержано зразки сапфіру класу оптичної чистоти 20/10 - 10/5 за стандартом USA MIL-О-13830 з шорсткістю <$E R sub a~-~2~-~3~roman A back 35 up 35 symbol Р>.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"