Zayats M. S. Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering / M. S. Zayats, V. G. Boiko, P. O. Gentsar, M. V. Vuichyk, O. S. Lytvyn, A. V. Stronski // Functional Materials. - 2010. - 17, № 2. - С. 209-212. - Бібліогр.: 11 назв. - англ.За допомогою методу високочастотного реактивного магнетронного розпилення алюмінієвої мішені у газовій суміші Ar і N2 (відповідно 1:3,5) одержано полікристалічні плівки AlN товщиною 0,45 - 0,6 мкм на підкладках із монокристалічного кремнію n-Si(111) з питомим опором <$E (2 symbol Ш )~cdot~10 sup -3> Ом <$E cdot> см. Досліджено морфологію поверхні та оптичні властивості плівок AlN/n-Si(111) (спектри відбивання у діапазонах 200 - 750 нм і 1,4 - 25 мкм). Одержане значення показника заломлення плівок AlN/n-Si(111) у діапазоні довжин хвиль 505 - 675 нм дорівнює 2,13. Різницю у розміщенні мінімуму смуги відбивання плівок і кристала в ІЧ області спектра пояснено наявністю механічних напружень розтягу та впливом сильнолегованої підкладки n-Si(111) на ІЧ відбивання плівок AlN. Індекс рубрикатора НБУВ: К663.033-18
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж41115 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) ![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|