Маланич Г. П. Взаємодія PbTe та твердих розчинів Pb1-xSnxTe з травильними композиціями Н2O2-НВr-розчинник : автореф. дис. ... канд. хім. наук : 02.00.21 / Г. П. Маланич; Чернів. нац. ун-т ім. Ю. Федьковича. - Чернівці, 2013. - 20 c. - укp.Дослідження присвячено взаємодії монокристалів РbТе і твердих розчинів Pb0,83Sn0,17Te, Рb0,8Sn0,2Те (І) і Pb0,8Sn0,2Te (II) з бромвидільними травниками Н2O2 - НВг - розчинник, розробці й оптимізації травильних композицій та методик обробки для формування високоякісної поверхні. Вивчено характер розчинення досліджуваних матеріалів в травниках систем Н2O2 - НВr - етиленгліколь, Н2O2 - НВr - ацетатна, Н2O2 - НВr - лактатна, Н2O2 - НВг - оксалатна, Н2O2 - НВr - тартратна, Н2O2 - НВг - цитратна кислоти та побудовано 24 діаграми "склад травника - швидкість травлення" з визначенням меж областей полірувальних і неполірувальних розчинів. Досліджено залежності швидкостей травлення від температури та швидкості обертання диску та показано, що процес розчинення цих напівпровідників у полірувальних розчинах Н2O2 - НВг - розчинник лімітується дифузійними стадіями. Із аналізу температурних залежностей швидкостей розчинення підтверджено існування компенсаційного ефекту в кінетиці хімічного травлення РbТе і Pb1-xSnxTe в травильних композиціях Н2O2 - НВr - розчинник. Виявлено вплив природи розчинника та концентрації бромідної кислоти на швидкість хімічного розчинення, полірувальні властивості розчинів та якість полірованої поверхні РbТе та Pb1-xSnxTe. Показано, що зі зростанням вмісту стануму в складі твердого розчину Pb1-xSnxTe швидкість травлення не суттєво змінюється, а області полірувальних травників на діаграмах зменшуються. Мікроструктурним аналізом, растровою електронною мікроскопією та методом спектроскопії комбінаційного розсіювання світла встановлено вплив кількісного й якісного складу травників, а також способів хімічної обробки на параметри шорсткості поверхонь РbТе і твердих розчинів Pb1-xSnxTe. Оптимізовано склади полірувальних травильних композицій Н2O2 - НВr - розчинник і технологічні режими ХДП і ХМП для видалення порушеного шару, контрольованого потоншення пластин до заданих розмірів, зняття тонких плівок і фінішного полірування монокристалів РbТе та твердих розчинів Pb1-xSnxTe. Індекс рубрикатора НБУВ: Г523.1 + Г124.335
Рубрики:
Шифр НБУВ: РА402259 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) ![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|