Kobeleva S. P. Some aspects of phosphorus diffusion in germanium in In0,01Ga0,99As/In0,56Ga0,44P/Ge heterostructures / S. P. Kobeleva, I. M. Anfimov, S. Y. Yurchuk, A. V. Turutin // Журн. нано- та електрон. фізики. - 2013. - 5, 4 (ч. 1). - С. 04021-1-04021-3. - Бібліогр.: 12 назв. - англ.The results of experimental and theoretical researches of phosphorus distribution in the first cascade of a multi cascade solar cell based on nanoscale structures AIIIBV/Ge are presented. Secondary ion mass spectroscopy has been applied to obtain profiles of phosphorus and gallium in In0,01Ga0,99As/In0,56Ga0,44P/Ge heterostructure. In the germanium surface there is a thin layer of about 26 nm, in which the gallium concentration exceeds the concentration of phosphorus. Therefore a nanoscale p-n junction forms that does not have a significant impact on the solar cells performance at room temperature. Phosphorus diffusion is much slower in this area than in area with electronic conductivity. The main p-n junction is formed at a distance of 130 - 150 nm from the surface of the germanium. Diffusivity of gallium (DGa = 1,4 x 10-15 cm2/s) is markedly higher than described in a literature. Diffusivity of P increase from DP = 3 x 10-15 cm2/s on the boundary of the heterostructure In0,49Ga0,51P to DP = 5,2 x 10-14 cm2/s in n-type Ge. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.256 + З252.8
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж100357 Пошук видання у каталогах НБУВ
Повний текст Наукова періодика України
![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|