Приведен аналитический обзор литературных данных о процессах, составляющих физическую основу технологии вакуумно-дугового осаждения покрытий. Описаны явления, ответственные за формирование пленок конденсацией вещества из плазмы дугового разряда в вакууме или в газовой среде низкого давления. Рассмотрены взаимодействие металлической плазмы с газовой мишенью, подложкой и другими поверхностями рабочей камеры, процессы зародышеобразования и роста конденсата, влияние энергетических параметров процесса осаждения (кинетической и потенциальной энергии ионов металла, степени активации и рода газа) на свойства конденсатов и приповерхностных слоев подложки.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"