Теоретически исследованы внутренние напряжения в покрытиях, осаждаемых при плазменно-иммерсионной ионной имплантации в режиме импульсного потенциала, в том числе при осаждении потока разнозарядных ионов. Получено выражение для зависимости внутренних напряжений от сорта и энергии ионов, длительности и частоты повторения импульсов. Обсуждено условие применимости выражения для внутренних напряжений, позволяющее определить критические параметры режима импульсного потенциала. Исследована возможность учета разнозарядности ионов при расчете внутренних напряжений путем введения среднего заряда осаждаемых ионов. Приведены расчеты напряжений в покрытиях TiN при осаждении низкоэнергетических ионов Ti⁺ из фильтрованной плазмы вакуумной дуги с учетом разнозарядности ионов. Проведено сравнение расчетных напряжений с экспериментальными данными. Показано, что приближение среднего заряда может приводить к большим ошибкам при определении напряжений в покрытии, осаждаемом из пучка ионов. Отмечено важная роль температуры осаждения при контроле внутренних напряжений в осаждаемом покрытии.

 Наукова періодика України 

---

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"