Встановлено умови оптимального балансу між ступенем агломерації аеросилу в суспензії, швидкістю знімання та якістю полірованої поверхні сапфіра підж час хіміко-механічного полірування у разі використання полірувальної суспензії, що містить поверхнево-активну речовину за різного pH. Визначено, що ці умови залежать від кристалографічної орієнтації поверхні сапфіра. Для орієнтацій (0001), (11<$E2 Bar>0), (10<$E1 Bar>2) одержано поверхню з шорсткістю Ra 0,2 - 0,4 нм та оптичною якістю класу 20/10-40/20 (USA MIL-O-13830) у разі використання полірувальної суспензії, яка містить поверхнево-активну речовину з функціональними групами ОН, за оптимального для кожної орієнтації значення pH.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"