Книжкові видання та компакт-диски Журнали та продовжувані видання Автореферати дисертацій Реферативна база даних Наукова періодика України Тематичний навігатор Авторитетний файл імен осіб
|
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000631229<.>) |
Загальна кількість знайдених документів : 1
|
Shapovalov A. P. Structure and optical properties of AlN films obtained using the cathodic arc plasma deposition technique / A. P. Shapovalov, I. V. Korotash, E. M. Rudenko, F. F. Sizov, D. S. Dubyna, L. S. Osipov, D. Yu. Polotskiy, Z. F. Tsybrii, A. A. Korchovyi // Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics. - 2015. - 18, № 2. - С. 117-122. - Бібліогр.: 18 назв. - англ.Aluminum nitride (AlN) film coatings have been obtained by a new technique of hybrid helikon-arc ion-plasma deposition. Possibility to combine the magnetic-filtered arc plasma deposition technique with a treatment in RF plasma of helicon discharge allowed us to deposit AlN coatings on thermolabile substrates, significantly increasing the deposition rate. A study of spectral properties of AlN films (reflection and transmission spectra within the range 2 - 25 µm) has been carried out by using the infrared Fourier spectrometer Spectrum BX-II. It has been shown that the obtained composite structures (AlN coatings on teflon and mylar substrates) could be used as passive filters in the infrared spectral range. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.226 + Ж671
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж16425 Пошук видання у каталогах НБУВ Повний текст Наукова періодика України Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
|