Левченко І. В. Вплив зміни концентрації C4H6O6 в складі композицій (NH4)2Cr2O7 - HBr - C4H6O6 на параметри хіміко-динамічного полірування напівпровідників типу AIIIBV / І. В. Левченко, І. Б. Стратійчук, В. М. Томашик, Г. П. Маланич // Фізика і хімія твердого тіла. - 2016. - 17, № 4. - С. 604-610. - Бібліогр.: 14 назв. - укp.Наведено результати експериментального визначення впливу вихідної концентрації тартратної кислоти на особливості хімічної взаємодії напівпровідників InAs, InSb, GaAs і GaSb з травильними розчинами (NH4)2Cr2O7 - HBr - C4H6O6. Встановлено, що введення C4H6O6 знижує загальну швидкість розчинення кристалів, підвищуючи в'язкість травильних композицій, а також покращує полірувальні властивості травильних розчинів. Порівняльний аналіз впливу зміни складу травильних композицій (NH4)2Cr2O7 - HBr - C4H6O6 з різною вихідною концентрацією C4H6O6 на параметри хіміко-динамічного полірування свідчить про те, що застосування 40 %-ної C4H6O6, в порівнянні з 27 %-ною, забезпечує якісніше полірування поверхні кристалів. Індекс рубрикатора НБУВ: Г523.1 + З843.3
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26618 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|