Hladkovskiy V. V. Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures = Спектроскопічні дослідження плазми високочастотного розряду при плазмохімічному травленні епітаксіальних структур нітриду галію / V. V. Hladkovskiy, O. A. Fedorovich // Укр. фіз. журн.. - 2017. - 62, № 3. - С. 206-211. - Бібліогр.: 18 назв. - англ.Наведено результати експериментальних досліджень впливу напруги зміщення на еволюцію спектрів випромінювання плазми під час травлення нітриду галію в плазмохімічному реакторі (ПХР) з керованими магнітними полями. За значень напруги зміщення більших за -250 В на спектрах випромінювання плазми з'являються лінії, що належать збудженим атомам матеріалів, з яких виготовлений робочий електрод. Під впливом від'ємного потенціалу проходить розпилення активного електрода і переосадження іонів металу на поверхню зразка, який обробляється, що призводить до зменшення швидкості травлення. Індекс рубрикатора НБУВ: Г595 + В333.33
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26988 Пошук видання у каталогах НБУВ Повний текст Наукова періодика України
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|