Проведено численное моделирование процесса сканирования сфокусированным пучком протонов с энергией 1 МэВ в канале протонно-лучевой литографии на базе электростатического ускорителя с целью выбора размеров отклоняющих пластин электростатической сканирующей системы. Условием выбора были максимальная величина растра сканирования на поверхности облучаемого образца и минимизация отклонения пучка вдоль оптической осн. Разработана программа построения профиля сканирования пучком, который адекватно отображает шаблон создаваемых микрокомпонентов. Отработан процесс подготовки образцов с нанесением тонкого слоя резистивного материала. Определены дозы облучения образцов протонным пучком для получения условий полного травления облученной области. Проведены тестовые эксперименты но проверке работоспособности системы управления процессом сканирования.

• Ребров Володимир Анатолійович (фізико-математичні науки)
• Журба Вячеслав Олегович (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"