Махний В. П. Определение высоты барьера контактов Ni-полупроводник фотоэлектрическим методом / В. П. Махний, М. М. Березовский, В. М. Склярчук, А. М. Слетов // Сенсор. електроніка і мікросистем. технології. - 2018. - 15, № 2. - С. 13-19. - Библиогр.: 11 назв. - рус.Проанализированы спектры фототока структур, полученных вакуумным напылением полупрозрачных слоев Ni на химически травленные подложки ряда полупроводников (Si, GaAs, GaP, CdTe и ZnSe) n-типа проводимости. Все структуры обладают фоточувствительностью в области энергий фотонов меньше ширины запрещенной зоны полупроводника при освещении как со стороны никеля, так и со стороны подложки. Оба эти спектральные участки, построенные в фаулеровских координатах, приводят к одинаковым значениям высоты потенциального барьера для каждого из исследуемых контактов Ni-полупроводник. Індекс рубрикатора НБУВ: З852-06
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж24835 Пошук видання у каталогах НБУВ Повний текст Наукова періодика України Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|