Маланич Г. П. Влияние введения модификатора вязкости в растворы H2O2 - HBr - этиленгликоль на химическое травление монокристаллов PbTe и твердых растворов Pb1-xSnxTe / Г. П. Маланич, В. Н. Томашик // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології : зб. наук. пр.. - 2017. - 15, вип. 4. - С. 637-647. - Библиогр.: 8 назв. - рус.Проведены исследование взаимодействия монокристаллических пластин PbTe и твердых растворов Pb1-xSnxTe с бромвыделяющими травителями (H2O2 - HBr - этиленгликоль)/этиленгликоль (ЭГ), разработка и оптимизация травильных композиций, а также методик их химической обработки для формирования высококачественной поверхности. Изучены зависимости скоростей химико-механического (ХМП) и химико-динамического (ХДП) полирования от разбавления базового полирующего травителя органическим компонентом. Определен характер растворения исследуемых материалов в растворах (H2O2 - HBr - ЭГ)/ЭГ, построены графические зависимости "состав травителя-скорость травления" и установлены концентрационные границы областей полирующих и неполирующих растворов. Показано, что увеличение количества ЭГ в составе травильной смеси уменьшает скорость травления (ХМП) полупроводниковых подложек PbTe и твердых растворов Pb1-xSnxTe от 185,0 до 23,0 мкм/мин и улучшает полирующие свойства травильных композиций H2O2 - HBr - ЭГ. Минимальные значения скоростей травления достигаются при максимальном насыщении смеси органическим компонентом (60 об. %). С помощью микроструктурного и профилографического анализов установлено влияние количественного и качественного состава травителей, а также способов химической обработки на параметры шероховатости поверхностей PbTe и твердых растворов Pb1-xSnxTe. Установлено, что ХМП монокристаллических полупроводников растворами состава H2O2 - HBr - ЭГ способствует уменьшению структурных нарушений подложек и получению качественной полированной поверхности. Оптимизированы составы полирующих травильных композиций (H2O2 - HBr - ЭГ)/ЭГ и технологические режимы ХМП и ХДП для снятия нарушенного слоя, быстро контролированного утонения пластины до заданной толщины, снятия тонких пленок и финитного полирования поверхности, монокристаллических образцов PbTe и твердых растворов Pb1-xSnxTe. Індекс рубрикатора НБУВ: К675.7-3
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж72631 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) ![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|