Combined mechanical scanning probe lithography (SPL) approach applied for the direct mask-less modification of graphene oxide (GO) flakes and the mask patterns engraving in layers of chalcogenide resist with a nanometer scale resolution have been implemented in this work. It was compared the dynamics of mechanical modification of chalcogenide films and multilayer GO flakes deposited from an aqueous suspension. The double-layer As40Se60/As4Ge30S66 chalcogenide resist developed for mechanical SPL and pattern formation processes have optimized. The resist with the thickness close to 100 nm provides formation of minimal pattern elements with the size of several tens nanometers. The SPL approach was realized on the basis of serial NanoScope IIIa Dimension 3000 scanning probe microscope, and original software utilities were developed. These mechanical SPL could be intended for the verification of innovative ideas in academic researches, the laboratory-level device prototyping, developing the functional prototypes of new devices in bio/nanosensorics, plasmonics, 2D electronics and other modern technology branches.

 Наукова періодика України 

---

Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)

• Литвин Петро Мар'янович (фізико-математичні науки)
• Індутний Іван Захарович (1949–) (фізико-математичні науки)
• Слободян Олександр Михайлович (фізико-математичні науки)
• Прокопенко Ігор Вікторович (медичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"