Розглянуто особливості фотопластичного ефекту (ФПЕ), що виникає у вузькощілинних кристалах (<$EE sub g ~symbol @~0,2> еВ) халькогенідів ртуті, освітлених білим світлом, у процесі їх одновісної деформації. Встановлено, що опромінення впливає на пластичну деформацію вузькощілинних кристалів твердих розчинів CdxHg1-xTe (x - молярний склад). Досліджений в роботі від'ємний фотопластичний ефект (ВФПЕ) пов'язаний зі зменшенням напруги пластичної плинності у разі опромінення білим світлом за умов одновісної пластичної деформації кристалу за постійної швидкості навантаження. Виявлено, що, на відміну від широкозонних кристалів сполук II - VI груп, які виявляють позитивний ФПЕ, в кристалах твердих розчинів CdxHg1-xTe ВФПЕ спостерігається за відсутності внутрішнього фотоефекту. Модель, що пояснює природу ВФПЕ, грунтується на встановленому факті зменшення у разі освітлення кристалу позитивного заряду в оксидному шарі приповерхневої області кристалу. Зменшення заряду понижує потенціальний бар'єр для виходу на поверхню дислокацій, що породжуються приповерхневими джерелами у процесі динамічного навантаження. Наслідком є зменшення напруги плинності деформації кристалу.

• Леонов Дмитро Сергійович (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"