Поверхню частинок MoS2 покрито нікелем за допомогою методу хімічного осадження з урахуванням його відносної ефективності й економічності. Синтезовано два зразки MoS2, один з яких був активований (ультразвуковим диспергуванням впродовж 30 хв у попередньо витриманій впродовж 24 год ванні, що містила 0,1 M SnCl2 та 0,1 M HCl). Вивчено вплив процесу активації на структуру покритих нікелем частинок MoS2. Встановлено, що безпосередньо після осадження на дифрактограмах обох зразків (активованих і неактивованих) фаза Ni відсутня, тоді як у відпалених зразках Ni присутній у ГЦК-фазі поряд з фазою MoS2. За допомогою методу польової емісійної сканувальної електронної мікроскопії досліджено морфологію поверхні всіх зразків. Виявлено, що ультразвукова обробка поверхні частинок MoS2 сприяє формуванню однорідного покриття, тоді як неактивований зразок має нерівномірне нікелеве покриття.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"