РЕФЕРАТИВНА БАЗА ДАНИХ "УКРАЇНІКА НАУКОВА"
Abstract database «Ukrainica Scientific»


Бази даних


Реферативна база даних - результати пошуку


Вид пошуку
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000712783<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 1

Першин Ю. П. 
Структура и фазовый состав многослойных рентгеновских зеркал W - Si / Ю. П. Першин, И. Г. Шипкова, А. Ю. Девизенко, В. В. Мамон, В. С. Чумак, В. В. Кондратенко // East Europ. J. of Physics. - 2018. - 5, № 3. - С. 32-44. - Библиогр.: 45 назв. - рус.

С помощью методов рентгеновской дифрактометрии (<$Elambda> ~ 0,154 нм) исследована фазовая структура, состав и строение многослойных рентгеновских зеркал (МРЗ) W/Si с толщиной слоев вольфрама <$Et sub W ~<<~10> нм, полученных с помощью метода прямоточного магнетронного распыления. Исследованы две серии образцов, изготовленных с различными скоростями осаждения вольфрама, которые отличаются примерно в 4 раза: ~0,60 и ~0,15 нм/с. Показано, что при толщине <$Et sub W ~>>~2,7> нм слои вольфрама имеют поликристаллическую (ОЦК) структуру, а при <$Et sub W ~<<~1,9> нм они аморфны. При помощи <$Esin sup 2 PSI>-метода установлено, что в тонких кристаллических слоях вольфрама (<$Et sub W ~<<~10> нм) может содержаться более 3 ат.% Si. Растягивающие напряжения в слоях кристаллического вольфрама не превышают 1,1 ГПа. Построение функций радиального распределения атомов позволило установить, что аморфные слон вольфрама имеют расположение атомов, близкое к <$Ebeta>W всех образцах за счет взаимодействия на межфазных границах наблюдается формирование силицидных прослоек, в результате чего реальная толщина слоев вольфрама меньше номинальной. Аморфные силицидные прослойки, обязательно формирующиеся на стадии изготовления МРЗ, содержат дисилицид вольфрама. В зависимости от скорости осаждения дисилицид может иметь расположение атомов, близкое либо к тетрагональной фазе, t-WSi2 (~0,6 нм/с), либо к гексагональной фазе, h-WSi2 (~0,15 нм/с). Представлена уточненная модель строения аморфных МРЗ W/Si. Предложены механизмы формирования силицидных прослоек, согласно которым нижние силицидные прослойки (W-нa-Si) формируются преимущественно за счет баллистического перемешивания атомов вольфрама и кремния, а верхние - вследствие диффузионного перемешивания. Сделана оценка коэффициентов взаимной диффузии, которые позволили установить, что эффективная температура поверхности осаждаемых слоев может быть, по меньшей мере, на <$E250~symbol Р roman C> выше температуры подложки. Предложены пути снижения межфазного взаимодействия.


Індекс рубрикатора НБУВ: В346.1 + В342.8

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж43925 Пошук видання у каталогах НБУВ 
Повний текст  Наукова періодика України 
Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)
  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
 
Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського
Відділ наукового формування національних реферативних ресурсів
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського