Досліджено опір Капіци RK на інтерфейсі між класичним твердим тілом і квантовим кристалом <$E nothing sup 4 roman He> як функція температури. Зроблено припущення, що RK базується на комбінації двох окремих механізмів, що відбуваються одночасно. Завдяки тому факту, що довжини хвиль фононів у твердому та надплинному <$E nothing sup 4 roman He> є величинами одного порядку, припускається, що один з механізмів - це резонансне розсіювання фононів на наномасштабних нерівностях поверхні, як передбачили Адаменко та Фукс (АФ) [1] для інтерфейсів тверде тіло/надплинний гелій. Інший механізм враховує взаємодію термічних фононів з коливаннями мобільних дислокацій усередині твердого <$E nothing sup 4 roman He>. Представлений аналіз демонструє правдоподібність цих двох механізмів у вирішенні давньої проблеми аномалії опору Капіци для контакту твердого <$E nothing sup 4 roman He> з міддю в температурному інтервалі від 0,4 до 2 К.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"