Проведено дослідження вольтамперних характеристик (ВАХ) і визначено термічний ккд плазмотрона МП-04 установки мікроплазмового напилення МПН-004 в умовах формування ламінарного аргонового мікроплазмового струменя. Визначено область робочих напруг плазмотрона і побудовано ВАХ, кожна з яких була знята при незмінних складі та витраті робочого газу, довжині відкритої ділянки дуги і незмінних конструктивних розмірах плазмотрона. Аналіз результатів експерименту показує, що ВАХ плазмотрона МП-04 є висхідними і мають лінійний вигляд. Встановлено, що за робочих значень сили струму тавитрати плазмоутворювального газу напруга знаходиться в межах 22 - 32 В. Методом проточного калоріметрування теплового потоку визначено термічний ккд плазмотрона, средньомасову початкову ентальпію та температуру плазмового струменя залежно від струму дуги і витрати плазмообразуючого газу. Встановлено, що в умовах процесу мікроплазмового порошкового напилення термічний ккд плазмотрона знаходиться в діапазоні 30 - 55 % і при витратах газу, що перевищують 40 л/год, практично не змінюється зі зміною сили струму.

• Борисов Юрiй Сергiйович (1932–) (технічні науки)
• Войнарович Сергій Григорович (технічні науки)
• Кузьмич-Янчук Євген Карлович (технічні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"