РЕФЕРАТИВНА БАЗА ДАНИХ "УКРАЇНІКА НАУКОВА"
Abstract database «Ukrainica Scientific»


Бази даних


Реферативна база даних - результати пошуку


Вид пошуку
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000748893<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 1

Карась М. І. 
Особливість релаксації поверхневої фотопровідності в структурах макропористого кремнію у видимій області спектра / М. І. Карась, Л. А. Карачевцева, В. Ф. Онищенко // Хімія, фізика та технологія поверхні. - 2020. - 11, № 2. - С. 228-234. - Бібліогр.: 15 назв. - укp.

Наведено результати експериментального дослідження спектральної залежності часу релаксації поверхневої монополярної фотопровідності (МПФП) в структурах макропористого кремнію (МПК). Дослідження проведено за сильного поверхневого поглинання світла, у цьому випадку коефіцієнт поглинання змінювався в діапазоні 2,37 x 10<^>3 - 3 x 10<^>5 см<^>-1, а глибина поглинання від 0,03 до 4,22 мкм. Для досліджень використано світлодіоди видимої області спектра (0,38 - 0,62 мкм) ультрафіолетовий, фіолетовий, синій, зелений, жовтий, жовтогарячий і червоний. Структури МПК формувалися на кремнії n-типу з орієнтацією [100] і питомим опором 4,5 Ом-см фотоелектрохімічним травленням. Макропори мали діаметр Dp = 3,5 мкм, глибину hp = 80 мкм і концентрацію Np = 3,5 x 10<^>6 см<^>-2. В структурах МПК експериментально спостерігалася "повільна" релаксація МПФП. Виявлено, що час релаксації МПФП залежав від довжини хвилі освітлення, і у видимої області спектра змінювався в діапазоні 15,5 - 42 с. Залежність часу релаксації фотопровідності від довжини хвилі освітлення мала мінімум часу релаксації 15,5 с за освітлення зеленим світлом із довжиною хвилі 0,5215 мкм. Причиною залежності часу релаксації МПФП є конкуренція процесів рекомбінації та прилипання на "повільних" поверхневих рівнях основних носіїв заряду. Домінування процесу рекомбінації або прилипання обумовлено характеристиками локальних центрів, умовами на поверхні, поверхневим вигином зон Ys, що і визначає поверхневу МПФП та її релаксацію. У довгохвильовій області спектра зменшення часу релаксації фотопровідності від 42 до 15,5 с пояснюється домінуванням процесу прилипання основних носіїв заряду на "повільних" поверхневих рівнях, які локалізовані в межах 1 нм від поверхні кремнію в перехідному шарі SiOx. У короткохвильовій області спектра повільне збільшення часу релаксації фотопровідності з 15,5 до 23,7 с пояснюється тим, що на час релаксації фотопровідності починає впливати прилипання основних носіїв заряду на "повільних" поверхневих станах, що локалізовані в SiO2 і мають великий час релаксації фотопровідності. Рівень прилипання поступово перетворюється на рівень сповільненої рекомбінації за великого коефіцієнта поглинання, що досягає значення 3 x 10<^>5 см<^>-1. Релаксація фотопровідності, пов'язана з поверхневими рівнями, обумовлюється довжиною хвилі освітлення, що викликає зміну коефіцієнта поглинання, глибини поглинання і поверхневого вигину зон Ys. Завдяки цьому спостерігалась спектральна залежність часу релаксації поверхневої фотопровідності в структурі МПК.


Індекс рубрикатора НБУВ: В379.271.42 + Л253.2-106

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж100480 Пошук видання у каталогах НБУВ 
Повний текст  Наукова періодика України 
Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)
  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
 
Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського
Відділ наукового формування національних реферативних ресурсів
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського