Bordun O. M. Effect of activator concentration on the morphology of thin films of Y2O3:Eu obtained by radio-frequency sputtering / O. M. Bordun, I. O. Bordun, I. M. Kofliuk, I. Yo. Kukharskyy, I. I. Medvid, Zh. Ya. Tsapovska, D. S. Leonov // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології : зб. наук. пр.. - 2020. - 18, вип. 3. - С. 717-725. - Бібліогр.: 11 назв. - англ.За допомогою методу високочастотного (ВЧ) іонно-плазмового розпорошення одержано тонкі плівки Y2O3:Eu з концентрацією активатора у 1, 2,5 і 5 мол.%. Дослідження морфології поверхні тонких плівок з використанням методу атомно-силової мікроскопії (АСМ) показали, що зі зростанням концентрації активатора зростає середній розмір кристалічних зерен, які формують плівки. На основі аналізу результатів розподілу розмірів зерен встановлено, що за концентрацій активатора у 1 і 5 мол.% спостерігаються мономодальні розподіли, а за концентрації активатора у 2,5 мол.% спостерігається бімодальний розподіл за рахунок зростання вторинних зерен. Проведено аналіз логнормальної залежності, яку використано для опису розподілу розмірів кристалічних зерен. Індекс рубрикатора НБУВ: Ж619
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж72631 Пошук видання у каталогах НБУВ
![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|