Металеві силіцидні плівки широко застосовуються в мікроелектронній промисловості, де їх використовують як випрямлячі та омічні контакти. Більшість металів вступає в реакцію з кремнієм, утворюючи силіцид; осадження тонкого металевого шару одержують різними техніками. Поширеними методами є вакуумне випаровування з ниткою розжарювання або електронною гарматою, розпилення та хімічне осадження з парової фази. Вакуумне осадження тонкого шару металу на кремнієву підкладку є одним з найбільш широко використовуваних методів. Металеву силіцидну плівку вирощують на кремнієвій підкладці, а потім відпалюють за різних теплових умов. У роботі для підготовки силіцидної плівки ми використовували як методику вакуумне випаровування PVD (фізичне осадження з парової фази) за допомогою нікелевої (Ni) нитки розжарювання високої чистоти. На підкладку природно окисненого Si(100) після високочастотної підготовки поверхні наносяться два шари нікелю з товщинами 56 нм і 35 нм. Потім ці різні зразки (Ni(56 нм)/Si(100) та Ni(35 нм)/Si(100)) відпалюють у вакуумі за різних температур, рівних 350, 500, 650 та <$E750~symbol Р roman C> протягом 30 хв. Характеристика одержаних шарів проводилася за наступними методиками: рентгенівською дифракцією (XRD) для вивчення структури плівок (фазова ідентифікація), чотириточковим зондом для вимірювання питомого поверхневого опору фази/фаз та дослідження шорсткості поверхні проводили за допомогою атомно-силової мікроскопії (AFM). Ріст Ni на природно окиснених підкладках Si(100) вивчався за допомогою різних методів, які підтвердили, що температура вакуумного відпалу має дуже важливий ефект, оскільки моносиліцидна фаза NiSi виникає від <$E650~symbol Р roman C>. Морфологічний аналіз поверхні розділу виявив наявність різних фаз NiSi, NiO та Ni2O3, що підтверджується структурним аналізом. Спостерігалась добра узгодженість результатів XRD з результатами вимірювання питомого поверхневого опору та середньоквадратичної шорсткості поверхні.

 Наукова періодика України 

---

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"