РЕФЕРАТИВНА БАЗА ДАНИХ "УКРАЇНІКА НАУКОВА"
Abstract database «Ukrainica Scientific»


Бази даних


Реферативна база даних - результати пошуку


Вид пошуку
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000796502<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 1

Luniov S. 
Tensoelectrical properties of electron-irradiated n-Si single crystals = Тензоелектричні властивості опромінених електронами монокристалів n-Si / S. Luniov, P. Nazarchuk, V. Maslyuk // East Europ. J. of Physics. - 2021. - № 3. - С. 37-42. - Бібліогр.: 18 назв. - англ.

Досліджено тензоопір за одновісного тиску для опромінених електронами монокристалів n-Si за кімнатної температури. Досліджувані монокристали кремнію леговано домішкою фосфору, концентрацією Nd = 2,2 x 10<^>16 см<^>3, та опромінювались потоками електронів 5 x 10<^>16 ел./см<^>2, 1 x 10<^>17 ел./см<^>2 і 2 x 10<^>17 ел./см<^>2 з енергією 12 МеВ. Вимірювання питомого опору та сталої Холла проводились для одновісно деформованих уздовж кристалографічних напрямків [100] і [111] монокристалів n-Si. На підставі вимірювань тензо-холл-ефекту та інфрачервоної Фур'є-спектроскопiї встановлено механізми виникнення тензорезистивного ефекту для досліджуваних монокристалів n-Si. Показано, що тензоопір для даних монокристалів визначається лише змінами рухливості електронів у разі деформації. У цьому випадку концентрація електронів не залежить від одновісного тиску, оскільки глибокі рівні радіаційних дефектів, що належать комплексам VOi VOiP, будуть повністю іонізованими. Іонізація глибокого рівня EV + 0,35 еВ, що належить дефекту CiOi, за рахунок деформації не буде проявлятися та впливати на тензоопір n-Si. Встановлено, що анізотропією розсіяння електронів на утворених радіаційних дефектах, яка виникає за одновісного тиску вздовж кристалографічного напрямку [100], є причиною різної величини тензоопору опромінених різними потоками електронів монокристалів n-Si. Залежність величини тензоопору одновісно деформованих уздовж кристалографічного напрямку [111] монокристалів n-Si від потоку електронного опромінення пов'язана зі змінами радіуса екранування за рахунок зростання ефективної маси електронів. Уперше одержане за кімнатної температури зростання величини тензоопору монокристалів n-Si за рахунок опромінення потоками електронів <$EPHI~symbol У~1~cdot~10 sup 17> ел./см<^>2 може бути використане для конструювання сенсорів високого одновісного тиску на основі таких монокристалів n-Si з більшим значенням коефіцієнта тензочутливості відносно наявних аналогів. Такі сенсори матимуть підвищену радіаційну стійкість і широку сферу експлуатації.


Індекс рубрикатора НБУВ: В379.227 + В379.27

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж43925 Пошук видання у каталогах НБУВ 
Повний текст  Наукова періодика України 
Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)
  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
 
Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського
Відділ наукового формування національних реферативних ресурсів
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського