Bordun O. M. Surface morphology of Y2O3:Eu thin films at different activator concentrations / O. M. Bordun, I. O. Bordun, I. M. Kofliuk, I. Yo. Kukharskyy, I. I. Medvid, Zh. Ya. Tsapovska, D. S. Leonov // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології : зб. наук. пр.. - 2022. - 20, вип. 1. - С. 91-96. - Бібліогр.: 14 назв. - англ.За допомогою методу атомно-силової мікроскопії (ACM) досліджено морфологію поверхні тонких плівок Y2O3:Eu, одержаних за методом високочастотного (ВЧ) іонно-плазмового розпорошення, з концентрацією активатора у 1,0, 2,5 та 5 мол. %. На основі аналізу одержаних результатів встановлено практично лінійну залежність розмірів поверхневих структур від величини концентрації активатора та надлінійне зростання середньоквадратичної шерсткости поверхні та середньої віддалі між зернами. Проведено обговорення одержаних результатів. Індекс рубрикатора НБУВ: Ж619
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж72631 Пошук видання у каталогах НБУВ
![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|