РЕФЕРАТИВНА БАЗА ДАНИХ "УКРАЇНІКА НАУКОВА"
Abstract database «Ukrainica Scientific»


Бази даних


Реферативна база даних - результати пошуку


Вид пошуку
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000810918<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 1

Danilchenko S. N. 
Comparative XRD analysis of the stress state of a thin tungsten ribbon and magnetron-sputtered tungsten coatings = Порівняльний рентген-дифракційний аналіз напруженого стану вольфрамової тонкої стрічки та магнетронно напилених вольфрамових покриттів / S. N. Danilchenko, A. V. Kochenko, A. N. Kalinkevich, O. Yu. Karpenko, V. A. Baturin // J. of Nano- and Electronic Physics. - 2022. - 14, № 1. - С. 01026-1-01026-5. - Бібліогр.: 14 назв. - англ.

За допомогою методу рентгенівської тензометрії (<$Esin sup 2 psi> метод) досліджено напружений стан прокатаної вольфрамової стрічки та покриттів вольфраму, магнетронно напилених на підкладці з феритної сталі. У вольфрамовій стрічці виявлено площинні двовісні стискаючі напруження <$Esigma sub y ~=~ -0,40> ГПа і -0,45 ГПа у напрямку прокатки та <$Esigma sub x ~=~-0,28> ГПа і -0,25 ГПа у напрямку, перпендикулярному напрямку прокатки з лицьової та зворотної сторони, відповідно. У покриттях вольфраму на сталевій підкладці виявлено площинні рівновісні стискаючі напруження, вісесиметричні відносно нормалі до поверхні <$Esigma sub x ~=~sigma sub y ~=~sigma sub phi>. Величини напружень у вольфрамових покриттях у кілька разів вищі, ніж у вольфрамовій стрічці. Найбільше напруження стиснення (-3,7 ГПа) виявлено у вольфрамовому покритті номінальною товщиною 250 нм, у покритті товщиною 460 нм рівень напружень у 1,5 разу нижчий. Особливістю проведеного аналізу було те, що у випадку вольфрамової стрічки використовувалася лінія (310), яка безумовно належить до прецизійної області кутів дифракції, тоді як у випадку вольфрамових покриттів через перекриття (310) лінії W та лінії (220) <$Ealpha - roman Fe> підкладки, використано лінії (220) та (211), які задовольняють цій умові меншою мірою. Застосування відносно м'якого Co-випромінювання (у порівнянні з Cu-випромінюванням) дещо пом'якшило цю невідповідність. Параметр гратки, що відповідає недеформованому перетину еліпсоїда деформації (<$Ealpha sub 0>), у вольфрамовій стрічці був нижчим, а у покриттях - вищим, ніж довідкове значення для <$Ealpha - roman W>; зі збільшенням товщини покриття ця відмінність збільшується. Причини цих розбіжностей обговорено. З розгляду розширення дифракційних піків вольфраму встановлено, що як малі розміри кристалітів, так і мікродеформації кристалічної гратки є причиною цього розширення у зразках обох груп, хоча мікроструктура покриттів значно дефектніша.


Індекс рубрикатора НБУВ: К235.110.7

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж100357 Пошук видання у каталогах НБУВ 
Повний текст  Наукова періодика України 
Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)
  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
 
Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського
Відділ наукового формування національних реферативних ресурсів
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського