Danilchenko S. N. Comparative XRD analysis of the stress state of a thin tungsten ribbon and magnetron-sputtered tungsten coatings = Порівняльний рентген-дифракційний аналіз напруженого стану вольфрамової тонкої стрічки та магнетронно напилених вольфрамових покриттів / S. N. Danilchenko, A. V. Kochenko, A. N. Kalinkevich, O. Yu. Karpenko, V. A. Baturin // J. of Nano- and Electronic Physics. - 2022. - 14, № 1. - С. 01026-1-01026-5. - Бібліогр.: 14 назв. - англ.За допомогою методу рентгенівської тензометрії (<$Esin sup 2 psi> метод) досліджено напружений стан прокатаної вольфрамової стрічки та покриттів вольфраму, магнетронно напилених на підкладці з феритної сталі. У вольфрамовій стрічці виявлено площинні двовісні стискаючі напруження <$Esigma sub y ~=~ -0,40> ГПа і -0,45 ГПа у напрямку прокатки та <$Esigma sub x ~=~-0,28> ГПа і -0,25 ГПа у напрямку, перпендикулярному напрямку прокатки з лицьової та зворотної сторони, відповідно. У покриттях вольфраму на сталевій підкладці виявлено площинні рівновісні стискаючі напруження, вісесиметричні відносно нормалі до поверхні <$Esigma sub x ~=~sigma sub y ~=~sigma sub phi>. Величини напружень у вольфрамових покриттях у кілька разів вищі, ніж у вольфрамовій стрічці. Найбільше напруження стиснення (-3,7 ГПа) виявлено у вольфрамовому покритті номінальною товщиною 250 нм, у покритті товщиною 460 нм рівень напружень у 1,5 разу нижчий. Особливістю проведеного аналізу було те, що у випадку вольфрамової стрічки використовувалася лінія (310), яка безумовно належить до прецизійної області кутів дифракції, тоді як у випадку вольфрамових покриттів через перекриття (310) лінії W та лінії (220) <$Ealpha - roman Fe> підкладки, використано лінії (220) та (211), які задовольняють цій умові меншою мірою. Застосування відносно м'якого Co-випромінювання (у порівнянні з Cu-випромінюванням) дещо пом'якшило цю невідповідність. Параметр гратки, що відповідає недеформованому перетину еліпсоїда деформації (<$Ealpha sub 0>), у вольфрамовій стрічці був нижчим, а у покриттях - вищим, ніж довідкове значення для <$Ealpha - roman W>; зі збільшенням товщини покриття ця відмінність збільшується. Причини цих розбіжностей обговорено. З розгляду розширення дифракційних піків вольфраму встановлено, що як малі розміри кристалітів, так і мікродеформації кристалічної гратки є причиною цього розширення у зразках обох груп, хоча мікроструктура покриттів значно дефектніша. Індекс рубрикатора НБУВ: К235.110.7
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж100357 Пошук видання у каталогах НБУВ
Повний текст Наукова періодика України Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|