Bordun O. M. Deposition of thin Y2O3:Eu films by radio-frequency sputtering / O. M. Bordun, I. O. Bordun, I. M. Kofliuk, I. Yo. Kukharskyy, I. I. Medvid, I. M. Kravchuk, M. S. Karkulovska, D. S. Leonov // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології : зб. наук. пр.. - 2022. - 20, вип. 3. - С. 639-645. - Бібліогр.: 16 назв. - англ.Досліджено залежність швидкості нанесення тонких плівок Y2O3:Eu за ВЧ-розпорошення від тиску та складу робочого газу. Встановлено наявність оптимального тиску робочого газу, за якого швидкість нанесення є максимальною. Досліджено вплив концентрації активатора Eu<^>3+ на швидкість нанесення тонких плівок і яскравість катодолюмінесценції тонких плівок Y2O3:Eu. Пояснення одержаних результатів проведено в межах ефектів зворотнього розсіяння, зворотньої дифузії, особливу увагу приділено механізму резонансної перезарядки. Індекс рубрикатора НБУВ: К663.6-1
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж72631 Пошук видання у каталогах НБУВ
![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|