Bordun O. M. Surface morphology of ZnGa2O4:Cr thin films obtained by RF ion-plasma sputtering / O. M. Bordun, I. O. Bordun, I. I. Medvid, M. V. Protsak, I. Yo. Kukharskyy, V. G. Bihday, I. M. Kofliuk, I. Yu. Khomyshyn, D. S. Leonov // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології : зб. наук. пр.. - 2023. - 21, вип. 4. - С. 709-720. - Бібліогр.: 34 назв. - англ.За допомогою методу високочастотного (ВЧ) іонно-плазмового розпорошення в атмосфері аргону на монокристалічних підкладинках NaCl та аморфних підкладинках <$Eupsilon - roman SiO sub 2> одержано тонкі плівки ZnGa2O4:Cr. Дослідження морфології поверхні тонких плівок за методом атомно-силової мікроскопії (ACM) показали, що з переходом від підкладинок NaCl до <$Eupsilon - roman SiO sub 2> середній діаметр зерен, що формують поверхню плівки, зменшується від 320 нм до 211 нм. Термооброблення плівок на підкладинках з <$Eupsilon - roman SiO sub 2> в атмосфері аргону слабо впливає на середній діаметр зерен, а термооброблення на повітрі призводить до зростання середнього діаметра зерен до 316 нм. На основі XPS-спектрів показано, що після високотемпературного відпалу у досліджуваних плівках, окрім фази ZnGa2O4, можлива надлишкова присутність фази Ga2O3. Встановлено, що за відпалу плівок ZnGa2O4:Cr на повітрі відбувається зростання зерен вздовж поверхні плівки, а за відпалу в атмосфері аргону відбувається зростання зерен перпендикулярно до поверхні плівки.
Шифр НБУВ: Ж72631 Пошук видання у каталогах НБУВ
![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|