Показано, что основные задачи реализации пленочных ГИС сверхвысоких и крайне высоких частот зависят от выбора материала подложки, методов точного формирования проводников, методов и режимов осаждения металлов с высокой проводимостью без адгезионного подслоя. Рекомендовано применение полимерных подложек, методов ионного травления с использованием источника ионов типа Кауфмана и использование магнетронного распыления металлов.